Alenka Vesel je višja znanstvena sodelavka na IJS in izredna profesorica na Mednarodni podiplomski šoli Jožefa Stefana. Na IJS je vodja Odseka za tehnologijo površin. Je predsednica društva za vakuumsko tehniko Slovenije in slovenska predstavnica za področje uporabne površinske znanosti v mednarodni zvezi vakuumskih društev IUVSTA.
Njeno glavno raziskovalno področje so plinske razelektritve (plazme), interakcija plazemskih radikalov in fotonov z materiali ter razvoj zelenih plazemskih tehnologij, kjer se prednostno ukvarja z modifikacijo površinskih lastnosti materialov ter tudi plazemsko depozicijo, kot je na primer depozicija ogljikovih nanomaterialov za shranjevanje energije. Njeno delo je povezano tudi s karakterizacijo površinskih lastnosti materialov, pri čimer najbolj pogosto uporablja rentgensko fotoelektronsko spektroskopijo (XPS).